無(wú)錫吉致電子25年研究開(kāi)發(fā)生產(chǎn)——射頻濾波器拋光液 /半導(dǎo)體拋光液 /CMP拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry產(chǎn)品名稱：射頻濾波器拋光液/半導(dǎo)體拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液產(chǎn)品簡(jiǎn)介：射頻濾波器拋光液適合于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的排除和平坦化。擁有高的銅排除速率，碟型凹陷可調(diào)，低缺陷等特性。可采用在邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清理集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留，避免銅表面腐蝕，降低表面缺陷。我司產(chǎn)品特性： 1.懸浮性好，不易沉淀，操作方便。2.顆粒分散均勻，不團(tuán)聚，軟強(qiáng)度適中，有效避免拋光過(guò)程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。 3.運(yùn)用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。 4.分散性好、乳液均一，程度提高拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。5.無(wú)灰塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。可定制化：我們的拋光液可按客戶需求定制不一樣的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。 包裝方法：25KG/桶(也可依客戶需求)